Создание посадочного места для микросхемы КУсо штыревыми выводами
Для создания ПМ микросхемы К511ПУ2 со штыревыми выводами (рис. 5.16) по варианту установки VIIIа (рис. 5.17) (см. табл. 4.8) после загрузки и настройки конфигурации редактора Pattern Editor
необходимо выполнить следующие операции.
Установка параметров стиля прямоугольной ключевой монтажной площадки. Выполнить команды Options/Pad Style. В одноименном окне в списке Current Style обычно имеется лишь один стиль Default (По умолчанию) (рис. 5.7, а). Для формирования своих собственных стилей нажать кнопку Сору. В открывшемся диалоговом окне Copy Pad Style (рис. 5.7, б) в поле Pad Name набрать имя нового стиля E-type1 и нажать кнопку ОК.В диалоговом окне Copy Pad Style
в списке Current Style выбрать появившийся стиль E-type1 и нажать кнопку Modify (Complex). В открывшемся диалоговом окне Modify Pad Style
(Complex) в списке Layers (Слои) выбрать слой Тор
(Верхний) и установить для него прямоугольную форму контактной площадки. Для этого в поле Pad Definition (Описание контактной площадки) в открывающемся списке Shape (Форма) выбрать значение Rectangle (Прямоугольник), установить размеры, равные по высоте (Height) 1,4 мм и по ширине (Width) 1,4 мм, и нажать кнопку Modify (модифицировать).
Установить параметры сверления контакта. В области Hole задать диаметр сверления (Diameter), равный 0,8 мм. Результат установки параметров ключевого монтажного отверстия (стиль контактной площадки E-type1) на слое Top представлен на рис. 5.18. В списке Layers выбрать нижний слой (Bottom) и установить для него такие же установки, как и для верхнего слоя, и нажать кнопку Modify. Аналогично выполнить настройку контактной площадки и для сигнального слоя (Signal). Нажать кнопку ОК.В диалоговом окне Options Pad Style настроить стиль E-type1 по умолчанию (рабочим стилем).
Для этого нужно дважды щелкнуть ЛК по имени стиля E-type1 в списке
Выполнить команды Options / Pad Style. В одноименном окне в списке Current Style обычно имеется лишь один стиль Default (рис. 5.7, а)
Для формирования следующего стиля необходимо нажать кнопку Сору. В открывшемся диалоговом окне Copy Pad Style (рис. 5.7, б) в поле Pad Name набрать имя нового стиля E-type2 и нажать кнопку ОК.
В диалоговом окне Copy Pad Style в списке Current Style выбрать появившийся стиль E-type2 и нажать кнопку Modify
(Complex). В открывшемся диалоговом окне Modify Pad Style
(Complex) в списке Layers выбрать слой Тор и установить для него круглую форму контактной площадки. Для этого в поле Pad Definition
в открывающемся списке Shape выбрать значение Ellipse (Эллипс), установить размеры, равные по высоте (Height) 1,4 мм и по ширине (Width) 1,4 мм, и нажать кнопку Modify (Модифицировать).
задать диаметр сверления (Diameter), равный 0,8 мм. Результат представлен на рис. 5.19.
В списке Layers выбрать нижний слой (Bottom) и установить для него такие же установки, как и для верхнего слоя, и нажать кнопку Modify. Аналогично выполнить настройку контактной площадки и для сигнального слоя (Signal). Нажать ОК.
Установка контактных площадок посадочного места микросхемы.
Для этого выполнить команду Place Pad (пиктограмма ). Сначала следует установить первую контактную площадку квадратной формы. Для этого установить курсор в точку с координатами (10; 25) и щелкнуть ЛК. В результате появится первая контактная площадка квадратной формы (ключевая).
Затем необходимо установить остальные тринадцать КП, но уже круглой формы. Выполнить команды Options/Pad Style.
В диалоговом окне Options Pad Style
настроить стиль E-type2
по умолчанию (рабочий стиль). Для этого нужно дважды щелкнуть ЛК по имени стиля E-type2
в списке.
Поставить курсор в точку с координатами (10; 22,5) и щелкнуть ЛК. Перевести курсор в точку (10; 20) и щелкнуть ЛК. И так далее в точках с координатами: (10; 17,5), (10; 15), (10; 12,5), (10; 10), (17,5; 10), (17,5; 12,5), (17,5; 15), (17,5; 17,5), (17,5; 20), (17,5; 22,5) и (17,5; 25). В завершение щелкнуть ЛК, а затем ПК.
Результат установки контактных площадок посадочного места микросхемы представлен на рис. 5.20.
В строке параметров открыть список слоев и назначить текущим слой Top Silk (рис. 5.21).
Начертить контур микросхемы.
Выполнить команду Place Line (пиктограмма ).
Установить курсор в первую точку с координатами (11,25; 26,25) и щелкнуть ЛК. Перевести курсор во вторую точку (11,25; 8,75) и щелкнуть ЛК. Перевести курсор в 3-ю точку (16,25; 8,75) и щелкнуть ЛК. Затем в 4-ю точку (16,25; 26,25) и ЛК. Далее перевести курсор в первую точку (11,25; 16,25) и щелкнуть ЛК. Далее в точку с координатами (13,75; 23,75) и
ЛК. Снова перевести курсор в 4-ю точку (16,25; 26,25) и щелкнуть ЛК, а затем ПК (рис. 5.22).
В строке параметров открыть список слоев и назначить текущим слой Тор. Выполнить команды Edit / Select.
Перенумеровать контакты.
Для перенумерации контактов выполнить команды Utils / Renumber (или нажать на пиктограмму ). В результате откроется диалоговое окно Utils Renumber. В этом окне установить режим перенумерации контактов (в поле Туре выбрать Pad Number). Проверить, чтобы начальный номер контакта (Starting Pad Number) и приращение нумерации (Increment Value) были равны единице. Нажать ОК.
После этого поочередно щелкнуть ЛК в центре каждой КП.
Щелкнуть ПК.
Снова вызвать команду Utils / Renumber. В открывшемся диалоговом окне в поле Туре выбрать Default Pin Designator, установить Starting Pin Des и Increment Value
равными единице. После этого поочередно щелкнуть ЛК в центре каждой КП. Щелкнуть ПК.
Ввести точку привязки элемента.
По команде Place Ref Point (пиктограмма ) переместить курсор в точку с координатами (10; 25) и щелкнуть ЛК, а затем ПК.
Задать стиль шрифта.
Ввод атрибутов элемента.
В качестве атрибутов введем место для размещения позиционного обозначения и надпись типа элемента.
Для этого выполнить команду Place Attribute
(пиктограмма ). Откроется диалоговое окно Place Attribute. В нем в области Attribute Category назначить Component. В области Name выбрать RefDes.
В открывающемся списке Text Style установить Arial3_5Italic. Выравнивание текста Justification
задать по вертикали — низ, а по горизонтали — центр. Нажать кнопку ОК.
Установить курсор в точку с координатами (13,75; 27,5) и щелкнуть ЛК, затем ПК.
Вновь щелкнуть ЛК, в результате вновь появится диалоговое окно Place Attribute.
Выбрать в нем в области Attribute Category назначение Component. В области Name
— Type. В открывающемся списке Text Style задать стиль Arial3_5Italic. Выравнивание текста Justification
задать по вертикали и по горизонтали — центр. Нажать кнопку ОК.
Установить курсор в точку с координатами (13,75; 17,5), нажать и удерживать ЛК. Нажать клавишу буквы R для разворота атрибута на 90°.
Проверьте правильность разработанного ПМ (пиктограмма Validate Pattern ).
Результат формирования ПМ микросхемы К511ПУ2 показан на рис. 5.24.
Сохранить посадочное место в библиотеку.
Для этого выполнить команды Pattern/Save As. В результате откроется диалоговое окно Pattern Save As. Здесь щелкнуть по кнопке Library
и в открывшемся окне выбрать библиотеку Ivanov.lib. Выключить метку занесения информации в библиотеку как отдельного элемента (Create Component). В поле Pattern
набрать имя элемента DIP-14 (рис. 5.25) и нажать ОК.